( 1) 再沸器應盡量靠近塔體布置，甚至再沸器的管口可與塔的管口直接對接。若再沸器與塔直接對接，且 PID 圖上兩管口之間有儀表接口，則該儀表接口應讓設備改在對接的任一管口上。
( 2) 帶雙再沸器的塔，再沸器以對稱(chēng)布置為宜。
( 3) 塔底與再沸器連接的汽相管中心與再沸器管板的距離不應太大，以免造成熱虹吸效果不好而影響再沸器的效率。
( 4) 再沸器的支座位置應這樣確定: 再沸器與塔的相連管口的向上位移應相同。支座位置確定后應及時(shí)反饋給設備專(zhuān)業(yè)。對于立式虹吸式再沸器，塔釜正常液位通常與再沸器上管板相當，為了適應液位的波動(dòng)，再沸器管板的高度和塔的氣相連接管下端高度應當留有適當余量。
( 5) 多臺再沸器與塔布置時(shí)，再沸器的位置和安裝高度除應保證工藝要求外，還應滿(mǎn)足進(jìn)出口集合管的布置要求，并便于操作和檢修。
( 6) 用蒸汽或熱載體加熱的臥式再沸器應靠近塔體布置，并與塔體維持一定高差，二者之間的距離應滿(mǎn)足管道布置要求，再沸器抽管束的一端應有檢修場(chǎng)地和通道。
再沸器生根在塔體上，既可全生根，亦可半生根：
再沸器是否生根在塔上，除了滿(mǎn)足工藝要求外，還應考慮再沸器自身的大小和質(zhì)量以及精餾塔的可承載能力。
圖( a) 中再沸器的體積相對較小，質(zhì)量也不是很大，完全可以依托在塔體上。
圖 ( b) 中再沸器的體積相對較大，在布置空間不是很大的情況下，就應采用半生根的方式，這樣的布置就較為緊湊，占地面積小，經(jīng)濟性強。
再沸器安裝在單獨的支架或框架上：
再沸器是否安裝在單獨的支架或框架或地面上，除了滿(mǎn)足工藝要求外，還要考慮再沸器的形式。
圖 (a) 中的再沸器因周邊沒(méi)有可利用的框架，因此應將 2 臺再沸器聯(lián)合布置，以方便操作維修;
圖 ( b) 中一臥式再沸器直接支撐于地面，另一再沸器利用周邊框架進(jìn)行布置，這樣布置就更為經(jīng)濟，操作亦更為方便。
