在搪玻璃反應釜的燒制過(guò)程中可以按搪玻璃制品的工藝秩序分為底釉的燒成和面釉的燒成，兩者的工藝制度略有區別，燒成過(guò)程均需在氧化氣氛中進(jìn)行。尤其是底釉的燒成，氧化氣氛是鋼板與底釉密著(zhù)的必備條件。在底釉的燒制中，主要分為四個(gè)階段，就讓小編來(lái)帶大家依次了解一下每個(gè)階段都是怎樣的。
搪玻璃反應釜底釉層的燒成過(guò)程中的第一階段從室溫至約為400℃的溫度范圍，此階段主要是物理、化學(xué)變化。
①牢固吸附水的蒸發(fā)排除。
②有機物分解、燃燒、氣化、逸出。
③某些電解質(zhì)的結晶水脫去。
④某些電解質(zhì)分解放出氣體。
⑤開(kāi)口氣孔形成，提供氣體通道。
⑥粉層燒縮微裂，形成氣體通道。
⑦外來(lái)氧穿過(guò)通道、達到坯面。
⑧界面的鐵開(kāi)始氧化且逐漸加強。
此階段的主要現象為“氣體通道”形成，坯面氧化;液相燒結開(kāi)始出現。
以上就是搪玻璃反應釜底釉燒成第一階段的主要內容，下期繼續為您分享更多搪玻璃設備知識。
